20 多年以來，SACHEM 一直是用於電子製造應用的
光阻劑、選擇性蝕刻劑、晶片清洗劑和化學剝離劑的半導體化學品的領先供應商。高純度專業技術使我們能夠設計新配方成分來實現複雜的選擇性目標。SACHEM 已開發出 Envure System™ 以幫助滿足電子行業日益增長的性能、安全和品質標準。
Envure System™ 是適用於蝕刻、清洗、剝離和光阻劑應用的系列產品；所有 Envure™ 產品均可根據特定的性能要求進行調節。
Envure SE™ 用於蝕刻應用
Envure CL™ and Envure CM™ 用於清洗和 CMP 後應用
Envure DV™ 用於光阻劑和光刻工藝應用
Envure ST™ 用於需要少量水或無水的剝離應用的化合物
Envure™ 308
Formulary for IC
四甲基氫氧化銨 (TMAF) 20% AQ
CAS# 373-68-2
我們的目標是為您提供您理想的解決方案。請聯絡我們，告知您的應用需求或者瞭解更多關於：
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