芯片清洗 | Envure CL & CM™

用于硅芯片清洗应用的配方成分

SACHEM 已开发出 Envure CL™,以迎接面向集成电路 (IC) 市场的持续挑战的系列产品。

  • Envure CL™ 811
  • Envure CL™ 813
  • Envure CM™ 1522
  • Envure CM™ 855

SACHEM 的高纯度、强有机碱产品构成了光刻工艺、清洗、平面化以及蚀刻应用中众多关键配方的基础。Envure CL™ 具有可根据您特定应用需求而灵活调节温度和浓度等的高效性能。   与我们讨论您的特定性能目标。SACHEM 的独特应用专有技术和高纯度技术专长可以帮助您实现目标。

可选产品:

Envure CL™ 813
用于集成电路 (IC) 的清洁剂配方
苄基三甲基氢氧化铵 (BzTMAH),最多含水 20%
CAS# 100-85-6
SDS

Envure CM™ 1522
用于集成电路 (IC) 的清洁剂配方
四甲基氢氧化铵 (TMAH) 最多含水 25%
CAS# 75-59-2
SDS

Envure CM™ 855
用于集成电路 (IC) 的清洁剂配方
四丁基氢氧化铵 (TBAH),最多含水 55% UP
CAS# 2052-49-5

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