SACHEM 員工 Tony Schleismand 與 Ryan Enzer 於 2020 年 1 月 13 日至 18 日在亞利桑那州圖森市舉行的 2020 年冬季等離子體光譜化學會議上作了如下兩次演講：

A.Schleisman、R.Enzer 與 L.Zhen 編寫的《ICP-MS 性能與半導體行業需求的對比》，以及 R.Enzer 與 A.Schleisman 合編的《軸向電壓技術對高硫半導體化合物痕量分析的影響》。

由 ICP 資訊通訊主辦的 2020 年第 21 屆冬季等離子光譜化學會議，透過電感耦合等離子體 (ICP)、直流等離子體 (DCP)、微波等離子體 (MIP)、輝光放電（GDL、HCL）與鐳射源（LA、LIBS）展示了等離子體光譜化學分析方面的發展。

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