2 月 23日 – 27 日  SACHEM 合作夥伴將參加在加利福尼亞州聖約瑟舉辦的 2014 SPIE 高級光刻工藝會議。38 年來，SPIE 致力於將該行業人士齊聚一堂，解決在製造下一代積體電路過程中出現的挑戰。

20 多年以來，SACHEM 一直是用於電子應用的顯影劑電子配方成分的領先供應商。大部分顯影劑應用已使用四甲基氫氧化銨 (TMAH) 和 四丁基氫氧化銨 (TBAH)。SACHEM 已開發出 Envure DV™ 以幫助滿足電子行業日益增長的性能、安全和品質標準。Envure DV™ 專為光阻劑和光刻工藝應用而設計。