德克薩斯州，奧斯丁 2012 年 8 月 6 日對半導體製造過程中的四甲基氫氧化銨 (TMAH) 的安全和環保處理在生產線運作的所有階段均至關重要。SACHEM 率先開發出真正做到回收和再利用從生產線運作過程中收回的四甲基氫氧化銨 (TMAH) 的系統。屆時，SACHEM 的首席技術官 Craig Allen 博士將會出席於 2012 年 10 月 23 日到 24 日在加利福尼亞州聖約瑟舉辦的 SEMI 戰略材料會議並審查適用於四甲基氫氧化銨 (TMAH) 的回收和再利用選項。

2012 戰略材料會議 (SMC) 致力於探索在高級電子材料領域中的協同效應、最新趨勢和商業機遇。

「由於在線形蝕刻前端和線形晶片薄化後端中四甲基氫氧化銨的廣泛使用，生成了大量四甲基氫氧化銨廢物，這更增加了光刻過程中產生的顯影劑和沖洗所生成的大量廢物。」SACHEM, Inc. 的首席技術官 Craig Allen 博士表示，「與此同時，減少廢物以改善化學效率的需求和更嚴格的排放限制對傳統的廢物處理過程和模式提出了挑戰。基於我們在商業規模操作的豐富經驗，屆時我們將展示四甲基氫氧化銨 (TMAH) 的回收和再利用選項概覽。」

SACHEM 總部位於德克薩斯州奧斯丁，是一家化學科學公司，在北美洲、歐洲、中國及日本設有完備的商業運營部門和研究機構。我們的技術以高純度為核心，並已成功應用於電子材料、油田化學品、催化劑、聚合物、製藥、農藥、生物技術及能源材料等市場。