SACHEM 提供 Devera™,一系列用於配方設計師創建特別設計用於平面 (FPD) 和發光二極體 (LED) 製造挑戰需求的解決方案的化學品。在總成本與技術創新等競爭壓力的環境下,SACHEM 的 Devera™ 説明維持超出對提高性能、成本有效性及安全標準要求的前沿技術。
- Devera ST™ – 用於含水和無水散裝光刻膠和邊緣光刻膠去除
- Devera DV™ – 用於薄膜電晶體陣列顯影劑應用
- Devera CL™ – 用於清潔應用,同時保護導體材料不受腐蝕
提供的產品
用於薄膜電晶體 (TFT) 的顯示器清潔劑
四乙基氫氧化銨 (TEAH),含水 35%
CAS# 77-95-5
[sachem_product:440B]
Cleaner Formulary for TFT
用於薄膜電晶體 (TFT) 的清潔劑配方
四丁基氫氧化銨 (TBAH),含水 55%
CAS# 2052-49-5
[sachem_product:455D]
用於薄膜電晶體 (TFT) 的顯示器顯影劑
四甲基氫氧化銨 (TMAH),最多含水 20%
CAS# 75-59-2
[sachem_product:520B]
用於薄膜電晶體 (TFT) 的顯示器顯影劑
四甲基氫氧化銨 (TMAH),最多含水 24.9%
CAS# 75-59-2
[sachem_product:324A]
用於薄膜電晶體 (TFT) 的顯示器顯影劑
四甲基氫氧化銨 (TMAH),最多含水 25%
CAS# 75-59-2
[sachem_product:322C]
用於薄膜電晶體 (TFT) 的的剝離劑配方
四甲基氫氧化銨 (TMAH),含 15% 沒食子酸丙酯
CAS# 75-59-2/57-55-6
[sachem_product:339B]
用於薄膜電晶體 (TFT) 的的剝離劑配方
四甲基氫氧化銨 (TMAH),含 6% 沒食子酸丙酯
CAS# 75-89-2/57-55-6
[sachem_product:379B]
用於薄膜電晶體 (TFT) 的的剝離劑配方
四甲基氫氧化銨 (TMAH),含 7% 沒食子酸丙酯
CAS# 75-89-2/57-55-6
[sachem_product:496C]
我們的目標是為客戶提供多種選擇與支援。我們提供全面的支援服務組合,包括: