對半導體和平面顯示器製造過程中的四甲基氫氧化銨 (TMAH) 的安全及環保處理在生產線運作的所有階段均至關重要。SACHEM 致力於關愛環境和有效利用資源。憑藉我們專業的化學科學知識和技術，SACHEM 創造了能夠真正回收和再利用從製造工藝中回收的四甲基氫氧化銨的創新型回收技術 — Mobius System®。
由於在線形蝕刻前端和線形晶片薄化後端中四甲基氫氧化銨的廣泛使用，生成了大量四甲基氫氧化銨廢物，這更增加了光刻過程產生的顯影劑和沖洗所生成的大量廢物。與此同時，減少廢物以改善化學效率的需求及更嚴格的排放限制對傳統的廢物處理過程和模式提出了挑戰。
Mobius System® 為我們的客戶和合作夥伴提供使用及重複使用關鍵原材料的機會，從而確保實現其所要求的製造應用的可持續性及工藝經濟性。
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