光刻印工藝 | Devera DV

光刻印工藝採用叫做光刻膠的光敏材料來創作圖案,圖案完成後將轉印到下方的基板上。Devera DV™ 產品作為光阻劑使用,該產品用於去除已透過掩模曝光的光刻膠,從而在光刻膠上創作所需的圖案。Devera DV™ 產品具有這些高要求應用所需要的純度與一致性。

 

光刻印工藝中可用的產品

Devera DV™ 109
用於薄膜電晶體 (TFT) 的平板顯示器顯影劑
四甲基氫氧化銨 (TMAH),最多含水 20%
CAS# 75-59-2
[sachem_product:520B] | [sachem_forms:F53] | 樣本請求 | 報價請求

Devera DV™ 110
用於薄膜電晶體 (TFT) 的平板顯示器顯影劑
四甲基氫氧化銨 (TMAH),最多含水 24.9%
CAS# 75-59-2
[sachem_product:324A] | [sachem_forms:F54] | 樣本請求 | 報價請求其

Devera DV™ 111
用於薄膜電晶體 (TFT) 的平板顯示器顯影劑
四甲基氫氧化銨 (TMAH),最多含水 25%
CAS# 75-59-2
[sachem_product:322C] | [sachem_forms:F55] | 樣本請求 | 報價請求其

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