2 月 23日 – 27 日  SACHEM 合作伙伴将参加在加利福尼亚州圣何塞举办的 2014 SPIE 高级光刻技术会议。38 年来，SPIE 使该行业人士齐聚一堂，解决在制造下一代集成电路过程中出现的挑战。

20 多年以来，SACHEM 一直是用于电子应用的显影剂电子配方成分的领先供应商。大部分显影剂应用已使用四甲基氢氧化铵 (TMAH) 和四丁基氢氧化铵 (TBAH) 解决。SACHEM 已开发出 Envure DV™ 以帮助满足电子行业日益增长的性能、安全和质量标准。Envure DV™ 专为光阻剂和光刻工艺应用而设计。