SACHEM 员工 Tony Schleismand 和 Ryan Enzer 于 2020 年 1 月 13 日至 18 日在亚利桑那州图森市举行的 2020 年冬季等离子体光谱化学会议上作了如下两次演讲：

A.Schleisman、R.Enzer 和 L.Zhen 编写的《ICP-MS 性能与半导体行业需求的对比》，以及 R.Enzer 和 A.Schleisman 编写的《轴向电压技术对高硫半导体化合物痕量分析的影响》。

由 ICP 信息通讯主办的 2020 年第 21 届冬季等离子光谱化学会议，通过电感耦合等离子体 (ICP)、直流等离子体 (DCP)、微波等离子体 (MIP)、辉光放电（GDL、HCL）和激光源（LA、LIBS）展示了等离子体光谱化学分析方面的发展。

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