用于硅芯片清洗应用的配方成分
SACHEM 已开发出 Envure CL™，以迎接面向集成电路 (IC) 市场的持续挑战的系列产品。
- Envure CL™ 811
- Envure CL™ 813
- Envure CM™ 1522
- Envure CM™ 855
SACHEM 的高纯度、强有机碱产品构成了光刻工艺、清洗、平面化以及蚀刻应用中众多关键配方的基础。Envure CL™ 具有可根据您特定应用需求而灵活调节温度和浓度等的高效性能。 与我们讨论您的特定性能目标。SACHEM 的独特应用专有技术和高纯度技术专长可以帮助您实现目标。
可选产品：
Envure CL™ 813
用于集成电路 (IC) 的清洁剂配方
苄基三甲基氢氧化铵 (BzTMAH)，最多含水 20%
CAS# 100-85-6
[sachem_product:813A]
Envure CM™ 1522
用于集成电路 (IC) 的清洁剂配方
四甲基氢氧化铵 (TMAH) 最多含水 25%
CAS# 75-59-2
[sachem_product:322J]
Envure CM™ 855
用于集成电路 (IC) 的清洁剂配方
四丁基氢氧化铵 (TBAH)，最多含水 55% UP
CAS# 2052-49-5
