SACHEM의 직원 Tony Schleismand와 Ryan Enzer는 2020년 1월 13일부터 18일까지 애리조나주 투손에서 열린 플라즈마 분광화학 겨울 학술대회에서 다음과 같이 두 번 연설했다.
A.Schleisman, R.Enzer 및 L.Zhen이 작성한 <ICP-MS 성능 대비 반도체 산업 수요> 그리고 R.Enzer와 A.Schleisman이 작성한 <하이 설퍼 반도체 화합물의 흔적 분석에 있어서 축압기술의 영향>.
ICP Information Newsletter로 후원하는 2020년 21차 플라즈마 분광화학 겨울 학술대회는 유도결합 플라즈마(ICP), dc 플라즈마(DCP), 마이크로파 플라즈마(MIP), 글로 방전(GDL, HCL), 레이저 소스(LA, LIBS)를 통하여 플라즈마 분광화학 분석의 발전을 전시한다.
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