• SACHEM, Inc.
  • SACHEM소개
  • 견적요청
  • Request a Sample
  • ko한국어
    • enEnglish
    • zh-hans简体中文
    • ja日本語
    • zh-hant繁體中文

SACHEM, Inc.

Americas: +1 512-421- 4900 Japan: +81-6-6223- 0171
Netherlands: +31 418-68- 2000 Korea: +82-2-527- 1620
China: +86-21-5208-0330 Taiwan: +88-6-3-668- 2778
India: +91-9702073987
  • 집
  • 솔루션
    • Industries


      • Envure
      • 플랫 패널 디스플레이
      • 에너지 장치
      • 촉매 및 제올라이트
      • 유전 화학물질
      • 제약
      • 폴리머
      • 건강 관리
      • Ferrion
    • 응용 분야


        • 고급 세라믹
        • 화학물질 및 폴리머 생산용 촉매
        • 탄수화물 양이온화
        • 탄수화물 조절 물질
        • 커패시터
        • 화학물질 스트리퍼
        • Mobius System 화학물질 재활용
        • Endura CS
    • 응용 분야


        • 전자제품 패키징
        • Devera
        • 매몰 주조
        • 코어-셸 음극 코팅 기술
        • 상 이전 촉매
        • 포토레지스트 현상액
        • 광발전 화학물질
        • 환원성 물질
        • 선택적 에칭
        • 웨이퍼 클리닝
        • 제올라이트 템플릿 제조
  • 제품
    • 범주


      • Avanta
      • Catana
      • 평면 패널 디스플레이 화학물질 | Devera™
      • 점토 안정제 | Endura CS™
      • 반도체 화학물질 | Envure™
      • 농화학 | Ferrion™
      • GMAC
    • 브랜드


        • Mobius System ® 화학물질 재활용
        • Reagens
        • Salego
        • Saskine
        • Tronos
        • ZeoGen
    • 카테고리


      • 컨덕터
      • 폴리머용 촉매, 첨가제 및 보조제
      • 촉매
      • 코어-셸 음극 코팅 기술
      • 양이온화 물질 및 탄수화물 조절 물질
      • 클레이 조정제
      • 전해질 용액
      • 부식액 및 세정액
    • 카테고리


      • 에폭시 반응 희석액 및 수지
      • 상 이전 촉매
      • pH 조정제
      • 현상액
      • 제4 암모늄 화합물(4급)
      • 절차 화학물질
    • 유형별 화학 물질

      • 기타 화학물질 | Other Chemicals
  • 서비스
      • Academic Support Program
      • R&D 및 응용 분야 지원 서비스
      • Mobius System ® 화학물질 재활용
      • TMAH 안전 서비스
      • REACH 서비스
      • 맞춤형 제조, 배합 및 톨 서비스
      • 구조 유도 물질(SDA) 컨설팅 서비스
  • 자료
      • Safety Data Sheet (SDS) Database
      • Zeolite Industry Published Papers
      • REACH 방침
  • SACHEM, Inc.
      • 우리의 사명
      • 채용
      • ISO 인증서
      • SACHEM Americas Integrated Management System (SIMS) Policy
  • 뉴스
      • SACHEM Europe
  • 문의하기
      • SACHEM 위치
      • 문의하기
      • 조회를 요청하다
      • Request a Sample
SACHEM, Inc. - 리소그래피 공정 | Devera…

리소그래피 공정 | Devera DV™

리소그래피 공정은 감광성 폴리머, 노출 기판에3D 구조 이미지를 형성하기 위해 개발된 포토 레지스트라고 하는 촬영 과정이다. 일반적으로, 최적의 포토 레지스트의 이미지가 레지스트의 두께를 통한 수직벽과 기판의 평면 설계 또는 목적 패턴을 통해 정확한 형상을 갖는다. 따라서, 최종적인 레지스트 패턴은 이진 : 다른 부분이 완전히 노출되는 이상에 레지스트 기판의 부분이 덮여있다. 이런 바이너리 패턴은덮여 있는 기관이나 다른 패턴 전이기구로부터 보호될 수 있고 레지스트 때문에 바이너리 패턴은 패턴 전이가 필요하다.

반도체 리소그래피 공정
일반적이고 전형적인 리소그래피 공정에 필요한 것은 다음과 같다: 기판의 제조, 포토 레지스트 스핀 코팅, 프리 베이크, 노광, 노광 후 베이킹, 현상 및 포스트 베이킹등을 걸친다. 스트립은 리소그래피 공정에서 최종 동작 레지스트였고 레지스트 패턴은 에칭 또는 이온 주입을 통해 아래층으로 전사된다. 이 시퀀스는 일반적으로 리소그래피 클러스터라는 단위로 연속하고 서로 연결된 여러 도구들에서 수행된다.

상기 레지스트 패턴은 에칭 또는 이온 주입을 통해 상기 하부 층으로 전사 된 후, 레지스트 스트립은 리소그래피 프로세스의 마지막 동작이다. 이 시퀀스는 일반적으로 리소그래피 클러스터라는 단위로 연속 서로 연결된 여러 도구상에서 수행된다.

사용 가능한 제품
Devera DV™ 109
TFT를 위한 평면 패널 디스플레이 개발
테트라 메틸 암모늄 수산화물(TMAH) 20% AQ UP
CAS# 75-59-2
SDS | 제품 시트| 같은 결과 | 견적 요청
Devera DV™ 110
TFT를 위한 평면 패널 디스플레이 개발
테트라 메틸 암모늄 수산화물(TMAH) 24.9% AQ UP
CAS# 75-59-2
SDS | 제품 시트| 같은 결과 | 견적 요청
Devera DV™ 111
TFT를 위한 평면 패널 디스플레이 개발
테트라 메틸 암모늄 수산화물(TMAH) 25% AQ UP
CAS# 75-59-2
SDS | 제품 시트| 같은 결과 | 견적 요청________________________________________
다운로드 “Devera™”에 관한 정보

여기를 클리하시고 다운로드하세요.

Would you like more information? Receive product sheets to your inbox.

Connect with SACHEM

Link to our Facebook Page
Link to our Linkedin Page
Link to our Rss Page
Link to our Twitter Page

Quick Links

  • 제품
  • 솔루션
  • R&D 및 응용 분야 지원 서비스
  • 개인 정보 보호 정책

Resources

  • 백서
  • 특허 및 출판물
  • Zeolite Industry Published Papers
  • 기술 정보 라이브러리
  • 치환제 프로토콜

Company

  • SACHEM소개
  • 건강、안전、환경 & 커뮤니티
  • 품질 보증

Contact Us

  • 문의하기
  • 문의하기
  • 채용
  • ISO 인증서
© Copyright 2017 SACHEM Inc.
  • RSS
  • Facebook
  • Twitter
We use cookies to ensure that we give you the best experience on our website. If you continue to use this site we will assume that you are happy with it.OkNo