2月23-27日 SACHEM のメンバーは、カリフォルニア州サンジョゼの 2014 SPIE 先進リソグラフィーカンファレンスに参加します。 38年間、SPIE は次世代集積回路製造で発生する課題に取り組むこのコミュニティの社交の場となってきました。
SACHEMは電子アプリケーション向けの現像剤アプリケーションで使われる電子配合成分のリーディングサプライヤーであり、20年以上にわたりそのポジションを維持し続けています。 ほとんどの現像剤アプリケーションは、水酸化テトラメチルアンモニウム (TMAH)および水酸化テトラブチルアンモニウム (TBAH)を使って溶解されてきました。 SACHEMは、エレクトロニクス業界で高まっている性能、安全性、および品質の各基準を満たすためにEnvure DV™を開発しました。 Envure DV™ は、フォトレジスト現像剤およびリソグラフィーアプリケーション用に特に設計されています。