SACHEM が SEMICON Korea で IGZO および スムーズシリコンエッチングに関する新しいソリューションを発表

SACHEM が SEMICON Korea で IGZO および スムーズシリコンエッチングに関する新しいソリューションを発表

2014210 ()  SACHEM は、2月12-14日にソウルで開催される SEMICON 韓国に出展を行います (ブース #1242)。  SACHEM の専門家は、マイクロエレクトロニクス製造産業のために特別にデザインされた実績ある当社の製品シリーズについて議論に参加する予定です。  さらに、SACHEM は In-Ga-Zn-O (IGZO) やスムーズなシリコンエッチング処理に関する新しいソリューションを 2 つ発表することになっています。 

SACHEM は、IGZO ベースの TFT 製造に用いる湿式化学ダメージフリーのエッチング剤を設計しました。  この自社開発の配合は、アルミニウム、モリブデン、銅、チタンといったソース/ドレインの金属の選択的エッチングを大きく改善します。  IGZO のチャネルを保護するエッチング停止層を使う必要はもうありません。  この新しいソリューションは、 Devera™  製品ファミリーの最新メンバーとなります。

Devera™は、フラットパネルディスプレイ (FPD) やLED製造の課題解決を行うために特別に配合者が溶液を設計するのに用いる化学物質のポートフォリオです。 合計コストや技術革新に関する競争の激しい環境下において、SACHEMのDevera™シリーズ用いることで、性能、費用対効果、安全を向上させるニーズをさらに上回る先端の技術を発展させていくことが可能です。

SACHEM の TSV 露出エッチングソリューションは、特に高速シリコンエッチングやスムーズな表面仕上のために設計されています。  この製品は、TMAH や KOH より 2-4 倍速いエッチング速度を有しています。   この新しいソリューションは、3D パッケージング用途に関するウェーハ洗浄、除去、選択的エッチング、フォトレジスト現像剤の化学物質溶液を作成する配合者によって用いられる化学成分ポートフォリオの一部です。

「SACHEMは、韓国や世界の配合溶液のプロバイダーが直面する課題を理解しています。それで、こうした課題に対処できる高純度な成分を製造しているのです」とグローバル エレクトロニクス マーケティング担当マネージャーのケビン・マクラーリンが語ります。 「また、私たちはソリューション開発でのパートナーシップやコラボレーションの必要性を理解しています。 当社の成功は、このようなパートナーシップに基づくものなのです。」

当社のブース #1242 にお立ち寄りいただき、今日の半導体市場における課題やチャンスについて説明させていただけますと幸いです。 化学物質に関することなら何でもお聞きいただければと思います。

SEMICON Korea は、最新の市場トレンドや将来のマイクロエレクトロニクス製造を形作る技術発展を探る有数の半導体技術イベントです。  この半導体技術に関する重要なイベントは、韓国で開催されます。

本社がテキサス州オースティンにあるSACHEMは、北アメリカ、ヨーロッパ、中国および日本に、製造設備および研究施設を持つ化学品製造販売会社です。 当社のテクノロジーは高純度に関わるもので、エレクトロニクス材料、油田化学物質、触媒、ポリマー、医薬品、農薬、バイオテクノロジーおよびエネルギー材料といった市場で利用されています。