10月7~9日にかけてフランスのグルノーブルで開催されるSEMICON EuropaにSACHEMが出展

10月7~9日にかけてフランスのグルノーブルで開催されるSEMICON EuropaにSACHEMが出展

SACHEMの専門家がSEMICON Europaの652番ブースで待機し、最近の加工に関する課題と、マイクロエレクトロニクス製造産業に対して特に設計された当社の実績ある製品ラインについて説明を行います。Envure System™ は、複雑な現像、洗浄、エッチング、除去剤の用途に対応できる高純度有機塩基の次世代電子回路用配合成分のプラットフォームです。さらに、SACHEM は In-Ga-Zn-O (IGZO) やスムーズなシリコンエッチング処理に関する新しいソリューションを 2 つ発表することになっています。

SACHEM は、IGZO ベースの TFT 製造に用いる湿式化学ダメージフリーのエッチング剤を設計しました。この自社開発の配合は、アルミニウム、モリブデン、銅、チタンといったソース/ドレインの金属の選択的エッチングを大きく改善します。IGZO のチャネルを保護するエッチング停止層を使う必要はもうありません。この新しいソリューションは、 Devera™ 製品ファミリーの最新メンバーとなります。

Devera™は、フラットパネルディスプレイ (FPD) やLED製造の課題解決を行うために特別に配合者が溶液を設計するのに用いる化学物質のポートフォリオです。合計コストや技術革新に関する競争の激しい環境下において、SACHEMのDevera™シリーズ用いることで、性能、費用対効果、安全を向上させるニーズをさらに上回る先端の技術を発展させていくことが可能です。

SACHEM の TSV 露出エッチングソリューションは、特に高速シリコンエッチングやスムーズな表面仕上のために設計されています。この製品は、TMAH や KOH より 2-4 倍速いエッチング速度を有しています。 この新しいソリューションは、3D パッケージング用途に関するウェーハ洗浄、除去、選択的エッチング、フォトレジスト現像剤の化学物質溶液を作成する配合者によって用いられる化学成分ポートフォリオの一部です。

「SACHEMの化学者は、シリコンエッチング、粗さ、他の表面特性などの現象をよく理解しています。SACHEMは高純度配合成分に関してよく知られた存在であり、これらの新しい素材や用途に対応するため、その知識を活用しています」とSACHEMのグローバルエレクトロニクスマーケティングマネージャーであるKevin McLaughlinは語っています。

SEMICON Europaは、ヨーロッパの半導体業界における代表的な見本市であり、20か国から半導体製品関連のテクノロジー、マシン、機器、コンポーネント、資材、およびサービスの提供を行っている300以上のサプライヤーが出品を行います。

SACHEM, Inc.は米国、オランダ (ザールトボンメル)、日本、および中国において総合的な商業活動を行っているグローバルな化学品製造販売会社です。SACHEM は、エレクトロニクス アプリケーションのデベロッパ、エッチャント、およびクリーナーが使う製品に関して、第一線のサプライヤーであり続けてきました。当社の高純度に関する知識は、複雑な選択的目標を達成する新規な配合成分の設計を可能にします。テキサス州オースチンに拠点を置くSACHEMのグローバルサービスネットワークは、30以上の国々に広がっています。詳細を当社にお問い合わせいただき、SEMICONで会合を持つか、あるいはご相談の機会についてスケジュールを調整させていただきたいと思います。化学物質に関して、ぜひお気軽にご連絡ください。

即時リリース用 2013年9月11日 (木) エレクトロニクス市場