光刻印工艺采用叫做光刻胶的光敏材料来创作图案，图案完成后将转印到下方的基板上。Devera DV™ 产品作为光阻剂使用，该产品用于去除已通过掩模曝光的光刻胶，从而在光刻胶上创作所需的图案。Devera DV™ 产品具有这些高要求应用所需要的纯度与一致性。
光刻印工艺中可用的产品
Devera DV™ 109
用于薄膜晶体管 (TFT) 的平板显示器显影剂
四甲基氢氧化铵 (TMAH)，最多含水 20%
CAS# 75-59-2
[sachem_product:520B] | [sachem_forms:F53] | 样本请求 | 报价请求
Devera DV™ 110
用于薄膜晶体管 (TFT) 的平板显示器显影剂
四甲基氢氧化铵 (TMAH)，最多含水 24.9%
CAS# 75-59-2
[sachem_product:324A] | [sachem_forms:F54] | 样本请求 | 报价请求其
Devera DV™ 111
用于薄膜晶体管 (TFT) 的平板显示器显影剂
四甲基氢氧化铵 (TMAH)，最多含水 25%
CAS# 75-59-2
[sachem_product:322C] | [sachem_forms:F55] | 样本请求 | 报价请求其
下载“Devera™ 简介”
